グラファイトブッシングの目的は何ですか？
まず第一に、グラファイトブッシングは、高純度のグラファイト材料で作られた管状コンポーネントであり、多くのユニークな物理的特性を持ち、高温、腐食性、精密な産業シーンの重要な成分となっています。
高温環境アプリケーション（冶金/セラミック産業や単結晶シリコン製造など）では、グラファイトブッシングは3000度を超える高温に耐え、熱膨張係数が低くなります。溶融金属とガラスのパイプラインを運ぶパイプライン、または高温炉の加熱元素の保護袖としてよく使用されます。また、CZ単結晶炉の溶融シリコン材料の容器としても使用できます。
化学装置や電気化学界などのいくつかの非常に腐食性のシーンでは、グラファイトブッシングは、酸とアルカリの耐食性が優れているため、および腐食性培地を運ぶためのパイプラインのため、原子炉および熱交換器の抗腐食ライニングとしてよく使用されます。また、電気分解および電気めっきタンクのための導電性腐食電極スリーブとしても使用できます。
半導体の製造や真空焼結炉など、半導体および真空技術の分野で。グラファイトブッシングは、高温に耐性があり、汚染を避ける拡散炉およびCVD機器のウェーハキャリアとして使用されます。また、高温で真空シーリングを確保するために、加熱要素サポート構造として使用することもできます。
さらに、グラファイトブッシングは、リチウムバッテリー焼結炉の温度均等化コンポーネントなど、急速な熱伝達を必要とするいくつかのシナリオでも使用できます。
